Přehled keramiky z nitridu hliníku

Aluminium Nitride Ceramic je pokročilý keramický materiál s nitridem hliníku jako hlavní složkou. Pro své jedinečné vlastnosti je široce používán v elektronice, optice a mechanice.

Vlastnosti keramiky z nitridu hliníku

Vysoká tepelná vodivost: Keramika z nitridu hliníku má relativně vysokou tepelnou vodivost, obvykle mezi 170-260 W/m·K, což z ní činí vynikající materiál pro odvod tepla. Je zvláště vhodný pro elektronická zařízení, která vyžadují účinný odvod tepla, jako jsou podkladové materiály pro výkonová polovodičová zařízení.

Dobrá elektrická izolace: Navzdory vysoké tepelné vodivosti je keramika z nitridu hliníku vynikajícími izolátory elektřiny, které mohou účinně zabránit úniku proudu a zajistit bezpečný provoz elektronických součástek.

Nízká dielektrická konstanta a dielektrické ztráty: Tyto vlastnosti činí keramiku z nitridu hliníku velmi vhodnou pro použití ve vysokofrekvenčních obvodech, protože může snížit energetické ztráty během přenosu signálu.

Odolnost vůči vysokým teplotám: Keramika z nitridu hliníku si může zachovat strukturální stabilitu a pevnost při extrémně vysokých teplotách. Jeho bod tání je asi 2800 °C, takže je vhodný pro aplikace v prostředí s vysokou teplotou.

Nízký koeficient tepelné roztažnosti: Ve srovnání s polovodičovými materiály, jako je křemík, má nitrid hliníku nižší koeficient tepelné roztažnosti, což znamená, že má lepší rozměrovou stabilitu při změně teploty, což pomáhá zlepšit spolehlivost balení.

Odolnost proti korozi: Keramika z nitridu hliníku má dobrou chemickou stabilitu vůči většině roztavených kovů a snadno nepodléhá oxidaci nebo korozi, což jim umožňuje dobře fungovat v drsném prostředí.

Vysoká mechanická pevnost: Ačkoli není tak tvrdý jako některé jiné typy keramických materiálů, keramika z nitridu hliníku stále poskytuje dostatečnou mechanickou pevnost, aby mohla být použita v mnoha konstrukčních aplikacích.

(0.385 mm 0.5 mm 0.635 mm 0.8 mm 1 mm 1.5 mm 2 mm 3 mm ALN hliníkový nitrid Keramický substrát / deska / plech)

Specifikace 0.385 mm 0.5 mm 0.635 mm 0.8 mm 1 mm 1.5 mm 2 mm 3 mm ALN keramický substrát / deska / plech z nitridu hliníku

Tato řada produktů využívá keramické substráty ALN (lehký nitrid hliníku) v několika tloušťkách. Dostupné možnosti zahrnují tloušťky 0.385 mm, 0.5 mm, 0.635 mm, 0.8 mm, 1 mm, 1.5 mm, 2 mm a 3 mm. Tyto substráty jsou vyrobeny pro vysoce výkonné aplikace vyžadující tepelnou regulaci a elektrickou izolaci. Každá tloušťka splňuje přísné standardy kvality, aby byla zajištěna integrita v komerčním a digitálním prostředí. Materiál si zachovává rovnoměrnost ve všech rozměrech. Mezi tajné vlastnosti patří vysoká tepelná vodivost (170–180 W/mK), nízký tepelný vývoj a vynikající elektrická izolace. Substráty odolávají chemickému degradaci a extrémním teplotám (-50 °C až

Varianty o tloušťce 850 mm a 0.385 mm jsou vhodné pro aplikace vyžadující ultratenké povrchy. Jsou optimální pro kompaktní elektronická zařízení, jako jsou LED moduly, mikroohřívače a senzory. Varianty o tloušťce 0.5 mm a 0.635 mm vyvažují všestrannost a dlouhou životnost. Používají se ve výkonových elektronických zařízeních, RF prvcích a výrobcích obvodů. Substráty o tloušťce 0.8 mm a 1 mm odolávají mírnému mechanickému namáhání. Mezi běžné použití patří pouzdra polovodičových výrobků, pouzdra laserových diod a rozptylovače tepla.

Silnější varianty (2 mm a 3 mm) podporují odolné aplikace. Jsou vybírány pro vysoce výkonné přístroje, automobilové systémy a letecké prvky. Všechny substráty mají hladké povrchy (Ra ≤ 0.4 μm) pro přesnou metalizaci. Fungují s procesy nanášení tenkých i tlustých vrstev. Tloušťka produktu se pohybuje kolem 3.3 g/cm300. Pevnost v ohybu přesahuje 15 MPa. Dielektrická houževnatost se pohybuje mezi 20-XNUMX kV/mm.

Možnosti personalizace zahrnují metalizované vrstvy (Al, Cu, Au, Ag) a povrchové úpravy. Velikosti lze přizpůsobit specifickým potřebám úkolu. Substráty jsou netoxické a splňují normu RoHS. Jsou baleny v antistatických produktech, aby se zabránilo poškození během přepravy. Dodržování pokynů doporučuje použití rukavic pro čisté prostory, aby se zabránilo kontaminaci.

Aplikace sahají do odvětví, jako jsou telekomunikace, vozidla, obnovitelné zdroje energie a lékařské nástroje. Tyto substráty zlepšují odvod tepla ve vysokofrekvenčních obvodech, IGBT modulech a LED polích. Fungují také jako základní desky pro výkonovou elektroniku a chrání součástky v bateriích elektrických vozidel. Účinnost zůstává stabilní i při cyklických tepelných změnách. Díky tomu jsou vhodné pro prostředí s rychlými změnami teploty.

Substráty ALN jsou testovány na odolnost proti tepelným šokům a mechanickou stabilitu. Kontroly kvality zahrnují rentgenové vyšetření a ultrazvukové skenování. Přípravy se liší v závislosti na množství objednávky a potřebách přizpůsobení. Hromadné objednávky mají snížené sazby. Technická pomoc je snadno k dispozici pro výběr produktu a jeho integraci.

(0.385 mm 0.5 mm 0.635 mm 0.8 mm 1 mm 1.5 mm 2 mm 3 mm ALN hliníkový nitrid Keramický substrát / deska / plech)

Použití 0.385 mm 0.5 mm 0.635 mm 0.8 mm 1 mm 1.5 mm 2 mm 3 mm ALN Nitrid hliníku Keramický substrát / deska / plech

Keramické substráty, desky a plechy z nitridu hliníku (ALN) se používají v mnoha průmyslových odvětvích. Tyto materiály se dodávají v hustotách od 0.385 mm do 3 mm. Hustota určuje nejlepší použití. Keramika ALN má vysokou tepelnou vodivost. Má také pevnou elektrickou izolaci. Díky tomu je optimální pro elektronická zařízení vyžadující regulaci tepla.

Substráty o tloušťce 0.385 mm a 0.5 mm jsou tenké. Fungují v přenosných elektronických zařízeních. Mezi příklady patří LED světla a mikroelektronické součástky. Tenké desky šetří místo. V omezených provedeních regulují teplo. Tyto hustoty zvládají střední stupně výkonu. Zabraňují přehřívání, aniž by zvyšovaly objem.

Verze o tloušťce 0.635 mm a 0.8 mm vyvažují všestrannost a odolnost. Jsou vhodné pro výkonové komponenty a rádiové komponenty. Tyto hustoty zvládají vyšší tepelné zatížení. Jsou běžné v elektronice vozidel. Používají se v senzorech a řídicích systémech. Stabilizují teplotu v náročných podmínkách.

Silnější substráty o tloušťce 1 mm a 1.5 mm podporují robustní aplikace. Používají se ve vysoce výkonných polovodičových nástrojích. Laserové diody a mikrovlnné obvody jsou na nich závislé. Dodatečná tloušťka zvyšuje mechanickou stabilitu. Rovnoměrně rozkládá teplo na větší povrchy. Průmyslová zařízení obvykle používají tyto rozměry.

Plechy o tloušťce 2 mm a 3 mm jsou nejodolnější. Zvládají i vážné problémy. Mezi aplikace patří letecký a obranný průmysl. Silné plechy odolávají tepelným šokům. Používají se ve vysokonapěťových izolacích a komerčních topných systémech. Tyto rozměry zvládají intenzivní teplo po dlouhou dobu.

Všechny keramické substráty ALN odolávají chemickému degradaci. Dobře fungují při teplotách od -40 °C do 1000 °C. Díky tomu jsou spolehlivé v náročných podmínkách. Pro specifické potřeby jsou k dispozici zakázkové rozměry. Materiály ALN jsou vybírány pro přesnost a robustnost. Splňují přísné standardy v oblasti elektronických zařízení, energetiky a pokročilé výroby.

Představení společnosti

Advanced Ceramics založená 17. října 2014 je high-tech podnik zavázaný k výzkumu a vývoji, výrobě, zpracování, prodeji a technickým službám keramických relativních materiálů a produktů. Od svého založení v roce 2014 se společnost zavázala poskytovat zákazníkům ty nejlepší produkty a služby a stala se lídrem v oboru díky neustálým technologickým inovacím a přísnému řízení kvality.

Naše produkty zahrnují keramické výrobky z karbidu křemíku, keramické výrobky z karbidu boru, keramické výrobky z nitridu bóru, keramické výrobky z karbidu křemíku, keramické výrobky z nitridu křemíku, keramické výrobky z oxidu zirkoničitého, výrobky z křemene atd. Neváhejte nás kontaktovat. (nanotrun@yahoo.com)

platební metody

T / T, Western Union, Paypal, kreditní karta atd.

Metody přepravy

Letecky, po moři, expresně, jak zákazníci požadují.

5 nejčastějších dotazů k keramickému substrátu / plechu z nitridu hliníku ALN o rozměrech 0.385 mm, 0.5 mm, 0.635 mm, 0.8 mm, 1 mm, 1.5 mm, 2 mm, 3 mm

Jaké jsou běžné způsoby použití keramických substrátů z nitridu hliníku o tloušťce 0.385 mm až 3 mm?
Tyto substráty se široce používají v elektronickém, automobilovém a leteckém průmyslu. Fungují jako chladiče, základny obvodů nebo izolační vrstvy. Tenčí plechy (0.385 mm–1 mm) se hodí pro vysoce přesná zařízení, jako jsou LED moduly nebo polovodičové obaly. Silnější plechy (1.5 mm–3 mm) zvládnou náročné aplikace, jako je výkonová elektronika nebo laserové systémy.

Proč zvolit nitrid hliníku před jinými keramickými materiály?
Nitrid hliníku (ALN) nabízí vynikající tepelnou vodivost (170–180 W/mK). Přenáší teplo rychleji než oxid hlinitý. Je také odolný vůči vysokým teplotám (až 1400 °C) a chemické korozi. Díky tomu je ALN ideální pro prostředí vyžadující rychlý odvod tepla a dlouhodobou stabilitu.

Jak si vyberu správnou tloušťku pro svůj projekt?
Přizpůsobte tloušťku tepelným a mechanickým potřebám vašeho návrhu. Tenké substráty (0.385 mm–0.8 mm) jsou vhodné pro kompaktní a lehké konstrukce, jako jsou mikroelektronické obvody. Střední tloušťky (1 mm–1.5 mm) vyvažují flexibilitu a pevnost pro senzory nebo VF součástky. Silné desky (2 mm–3 mm) podporují vysoce výkonná zařízení vyžadující tuhost, jako jsou regulátory motorů nebo měniče.

Existují nějaká bezpečnostní opatření pro manipulaci s keramickými deskami ALN?
ALN je křehký. Zabraňte pádu nebo nerovnoměrnému tlaku. Používejte rukavice, abyste zabránili přenosu oleje nebo vlhkosti. Před zpracováním očistěte povrchy isopropylalkoholem. Skladujte desky vodorovně v suchu, aby nedošlo k jejich deformaci nebo praskání.

Mohou být tyto substráty upraveny pro specifické tvary nebo otvory?
Ano. Keramika ALN umožňuje obrábění do zakázkových tvarů, drážek nebo otvorů. Řezání laserem nebo broušení diamantem zajišťuje přesnost. Poskytněte podrobné výkresy s požadavky na rozměry, tolerance a povrchovou úpravu. Většina dodavatelů nabízí prototypování a hromadné objednávky.

(0.385 mm 0.5 mm 0.635 mm 0.8 mm 1 mm 1.5 mm 2 mm 3 mm ALN hliníkový nitrid Keramický substrát / deska / plech)