Tinjauan umum keramik aluminium nitrida

Keramik Aluminium Nitrida merupakan material keramik canggih dengan aluminium nitrida sebagai komponen utamanya. Material ini telah banyak digunakan dalam bidang elektronik, optik, dan mekanik karena sifatnya yang unik.

Fitur keramik aluminium nitrida

Konduktivitas termal tinggi: Keramik aluminium nitrida memiliki konduktivitas termal yang relatif tinggi, biasanya antara 170-260 W/m·K, yang menjadikannya bahan pembuangan panas yang sangat baik. Keramik ini sangat cocok untuk perangkat elektronik yang memerlukan pembuangan panas yang efisien, seperti bahan substrat untuk perangkat semikonduktor daya.

Isolasi listrik yang baik: Meskipun konduktivitas termalnya tinggi, keramik aluminium nitrida merupakan isolator listrik yang sangat baik, yang secara efektif dapat mencegah kebocoran arus dan memastikan pengoperasian komponen elektronik yang aman.

Konstanta dielektrik dan kehilangan dielektrik rendah: Karakteristik ini membuat keramik aluminium nitrida sangat cocok untuk digunakan di sirkuit frekuensi tinggi karena dapat mengurangi kehilangan energi selama transmisi sinyal.

Tahan suhu tinggi: Keramik aluminium nitrida dapat mempertahankan stabilitas dan kekuatan struktural pada suhu yang sangat tinggi. Titik lelehnya sekitar 2800°C, sehingga cocok untuk aplikasi di lingkungan bersuhu tinggi.

Koefisien ekspansi termal yang rendah: Dibandingkan dengan bahan semikonduktor seperti silikon, aluminium nitrida memiliki koefisien ekspansi termal yang lebih rendah, yang berarti memiliki stabilitas dimensi yang lebih baik saat suhu berubah, yang membantu meningkatkan keandalan pengemasan.

Ketahanan terhadap korosi: Keramik aluminium nitrida memiliki stabilitas kimia yang baik terhadap sebagian besar logam cair dan tidak mudah teroksidasi atau terkorosi, sehingga memungkinkannya bekerja dengan baik di lingkungan yang keras.

Kekuatan mekanis yang tinggi: Meskipun tidak sekeras beberapa jenis bahan keramik lainnya, keramik aluminium nitrida tetap memberikan kekuatan mekanis yang cukup untuk memungkinkannya digunakan dalam banyak aplikasi struktural.

(Substrat Keramik Al2O3 Alumina dan AlN Aluminium Nitrida)

Spesifikasi Substrat Keramik Al2O3 Alumina dan AlN Aluminium Nitrida

Substrat keramik alumina Al2O3 dan substrat keramik aluminium nitrida AlN memiliki fungsi utama dalam perangkat elektronik dan aplikasi industri. Substrat alumina mengandung aluminium oksida sebagai komponen utamanya. Tingkat kemurnian yang umum meliputi 96% dan 99.5%. Kemurnian yang lebih tinggi meningkatkan efisiensi tetapi meningkatkan biaya. Alumina menawarkan konduktivitas termal yang tinggi, biasanya antara 20-30 W/mK. Produk ini memberikan isolasi listrik yang kuat, ketahanan mekanis yang tinggi, dan ketahanan terhadap keausan. Suhu pengoperasian naik hingga 1600 ° C. Produk ini bekerja dengan baik di sirkuit, isolator, dan pengaturan suhu tinggi. Efektivitas biayanya membuatnya menonjol untuk penggunaan umum.

Substratum aluminium nitrida menggunakan aluminium nitrida yang ringan sebagai produk utamanya. Konduktivitas termalnya jauh lebih tinggi daripada alumina, berkisar antara 140-180 W/mK. Hal ini menjadikan AlN sempurna untuk aplikasi yang membutuhkan pembuangan panas yang andal. Koefisien perkembangan termalnya sangat cocok dengan silikon. Hal ini mengurangi tekanan pada kemasan produk semikonduktor. AlN menjaga keamanan pada tingkat suhu yang melampaui 2000 °C. Isolasi listrik tetap kuat bahkan dalam kondisi ekstrem. Produk ini tahan terhadap korosi kimia dan disintegrasi plasma.

Substrat alumina lebih murah dan lebih mudah diproduksi. Substrat ini sesuai dengan elemen digital standar seperti pencahayaan LED, sensor, dan modul daya. Substrat AlN lebih mahal karena produksinya yang rumit. Substrat ini sesuai dengan area berkinerja tinggi seperti perangkat elektronik berdaya tinggi, peralatan RF, dan dioda laser. Pemantauan termal AlN mendukung inovasi inovatif seperti stasiun pangkalan 5G dan sistem truk listrik.

Bangunan mekanis bervariasi antara keduanya. Alumina memiliki ketangguhan lentur yang lebih tinggi, sekitar 300-400 MPa. Standar AlN 300-350 MPa. Pilihan penyelesaian permukaan terdiri dari lapisan yang dicerahkan, belum difinishing, atau dilapisi logam. Rentang kepadatan dari 0.25 mm hingga beberapa milimeter. Ukuran dan bentuk khusus ditawarkan untuk kedua produk.

Substrat alumina menangani beban termal yang sederhana. Substrat AlN mengelola panas yang intens dalam tata letak portabel. Pilihan material bergantung pada persyaratan termal, rencana anggaran, dan spesifikasi aplikasi. Desainer biasanya memilih alumina untuk proyek yang sensitif terhadap biaya. AlN dibutuhkan saat pembuangan panas sangat penting. Kedua material memenuhi kriteria sektor untuk keandalan. Mereka memungkinkan layanan tahan lama di seluruh elektronik konsumen, sistem otomotif, suku cadang kedirgantaraan, dan mesin komersial. Pemilihan yang tepat memastikan kinerja dan umur panjang yang optimal.

(Substrat Keramik Al2O3 Alumina dan AlN Aluminium Nitrida)

Aplikasi Substrat Keramik Al2O3 Alumina dan AlN Aluminium Nitrida

Substrat keramik alumina (Al2O3) dan aluminium nitrida (AlN) memainkan peran penting dalam pasar yang inovatif. Substrat keramik alumina umumnya digunakan dalam elektronik. Substrat ini menyediakan isolasi listrik yang kuat dan keamanan termal yang tinggi. Sirkuit dan modul daya mengandalkannya untuk pembuangan panas yang efektif. Alumina tahan terhadap karat kimia dan keausan mekanis. Perangkat industri menggunakan komponen alumina dalam atmosfer suhu tinggi atau abrasif. Komponen ini bertahan lebih lama di bawah tekanan. Peralatan medis menggunakan alumina untuk implan dan peralatan bedah. Bahan ini biokompatibel dan bebas risiko kontak dengan sel tubuh. Sistem otomotif menggunakan unit penginderaan alumina dan komponen pengapian. Komponen ini bekerja dengan andal dalam kondisi mesin yang parah.

Substrat aluminium nitrida unggul dalam konduktivitas termal. Substrat ini memindahkan panas lebih cepat daripada alumina. Perangkat digital berdaya tinggi seperti chip LED dan modul semikonduktor menggunakan AlN. Penumpukan panas mengurangi masa pakai perangkat. AlN menjaga suhu tetap stabil. Sistem lampu LED bergantung pada AlN untuk pengaturan panas. LED yang lebih terang memerlukan pendingin udara yang andal. Substrat AlN mencegah panas berlebih. Komponen frekuensi super tinggi (RF) menggunakan AlN untuk stabilitas sinyal. Aplikasi frekuensi tinggi menghasilkan panas. AlN mempertahankan kinerja tanpa kehilangan sinyal. Sistem kedirgantaraan menggunakan AlN untuk radar dan perangkat keras komunikasi. Material ini tahan terhadap perubahan suhu yang cepat dan tekanan mekanis.

Alumina dan AlN bervariasi dalam hal biaya dan fokus aplikasi. Alumina jauh lebih terjangkau. Cocok untuk insulasi serbaguna dan ketahanan aus. Harga AlN jauh lebih mahal tetapi berkinerja lebih baik dalam kondisi beban termal tinggi. Insinyur memilih berdasarkan persyaratan pemantauan panas. Kedua material tersebut dibentuk menjadi bentuk yang presisi. Pemotongan dan penggilingan laser menghasilkan desain yang ramping dan rumit. Pelapisan permukaan meningkatkan ikatan dengan lapisan baja atau sirkuit. Substrat keramik memungkinkan miniaturisasi pada perangkat elektronik. Perangkat yang lebih kecil membutuhkan produk yang menangani ketebalan daya yang lebih besar. Alumina dan AlN memenuhi kebutuhan ini di seluruh pasar. Properti mereka mendorong kemajuan dalam teknologi elektronik, perawatan medis, otomotif, dan kedirgantaraan.

Perusahaan

Advanced Ceramics didirikan pada tanggal 17 Oktober 2014, merupakan perusahaan teknologi tinggi yang berkomitmen pada penelitian dan pengembangan, produksi, pemrosesan, penjualan, dan layanan teknis bahan dan produk keramik. Sejak didirikan pada tahun 2014, perusahaan ini telah berkomitmen untuk menyediakan produk dan layanan terbaik bagi pelanggan, dan telah menjadi pemimpin dalam industri ini melalui inovasi teknologi berkelanjutan dan manajemen kualitas yang ketat.

Produk kami meliputi tetapi tidak terbatas pada produk keramik silikon karbida, produk keramik boron karbida, produk keramik boron nitrida, produk keramik silikon karbida, produk keramik silikon nitrida, produk keramik zirkonium dioksida, produk kuarsa, dll. Jangan ragu untuk menghubungi kami. (nanotrun@yahoo.com)

Metode Pembayaran

T/T, Western Union, Paypal, Kartu Kredit, dll.

Metode Pengiriman

Melalui udara, laut, ekspres, sesuai permintaan pelanggan.

5 FAQ tentang Substrat Keramik Al2O3 Alumina dan AlN Aluminium Nitrida

Substrat keramik alumina Al2O3 dan aluminium nitrida AlN banyak digunakan dalam elektronik. Berikut adalah 5 FAQ tentang keduanya. Apa perbedaan utama antara substrat Al2O3 dan AlN? Al2O3 memiliki konduktivitas termal yang lebih rendah tetapi harganya lebih murah. AlN menawarkan konduktivitas termal yang lebih tinggi, sehingga lebih baik untuk perangkat berdaya tinggi. AlN juga lebih sulit diproduksi, sehingga harganya pun naik. Industri apa saja yang menggunakan substrat ini? Al2O3 umum digunakan dalam elektronik konsumen, lampu LED, dan sensor otomotif. AlN cocok untuk area berkinerja tinggi seperti kedirgantaraan, modul daya, dan komponen RF. Keduanya dapat menangani lingkungan yang keras karena ketahanannya terhadap panas dan kimia. Bagaimana konduktivitas termal memengaruhi kinerja? Konduktivitas termal yang lebih tinggi memindahkan panas lebih cepat. Konduktivitas AlN 5-10 kali lebih tinggi daripada Al2O3. Ini mencegah panas berlebih di sirkuit padat atau pengaturan berdaya tinggi. Al2O3 berfungsi untuk aplikasi dasar di mana penumpukan panas dapat dikelola. Apakah substrat ini dapat disesuaikan? Ya. Keduanya tersedia dalam berbagai ukuran, ketebalan, dan permukaan akhir. Pelapis logam seperti emas atau tembaga dapat ditambahkan untuk penyolderan atau pemasangan kabel. Pengeboran laser menciptakan lubang yang presisi untuk sirkuit yang rumit. Bentuk khusus dapat dibuat tetapi dapat meningkatkan biaya. Tindakan pencegahan penanganan apa yang diperlukan? Hindari tekanan mekanis selama pemasangan. Kedua material tersebut rapuh. Bersihkan permukaan sebelum memasang komponen untuk mencegah masalah ikatan. Simpan dalam kondisi kering untuk meminimalkan penyerapan air. AlN lebih sensitif terhadap kontaminasi—gunakan sarung tangan untuk melindungi permukaannya.

(Substrat Keramik Al2O3 Alumina dan AlN Aluminium Nitrida)